而它的電子的來(lái)源有二：高溫金屬產(chǎn)生的熱電子，另一種電子的來(lái)源為中空陰極放電。(4)雷射加熱：激光束可經(jīng)由光學(xué)聚焦在蒸鍍源上，產(chǎn)生局部瞬間高溫使其逃離。zui早使用的是脈沖紅寶雷射，而后發(fā)展出紫外線(xiàn)準分子雷射。紫外線(xiàn)的優(yōu)點(diǎn)是每一光子的能量遠比紅外線(xiàn)高，因此準分子雷射的功率密度甚高，用以加熱蒸鍍的功能和電子束類(lèi)似。常被用來(lái)披覆成份復雜的化合物，鍍膜的品質(zhì)甚佳.它和電子束加熱或濺射的過(guò)程有基本上的差異，準分子雷射脫離的是微細的顆粒，后者則是以分子形式脫離。(5)電弧加熱：陰極電弧沉積的優(yōu)點(diǎn)為：①蒸鍍速率快，可達每秒1.0微米；②基板不須加熱；③可鍍高溫金屬及陶瓷化合物；④鍍膜密高且附著(zhù)力佳。

PVD鍍膜能夠鍍出的膜層的顏色種類(lèi)：PVD鍍膜目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色，淺金黃色，咖啡色，古銅色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。通過(guò)控制鍍膜過(guò)程中的相關(guān)參數，可以控制鍍出的顏色；鍍膜結束后可以用相關(guān)的儀器對顏色進(jìn)行測量，使顏色得以量化，以確定鍍出的顏色是否滿(mǎn)足要求。PVD鍍膜與傳統化學(xué)電鍍（水電鍍）的異同：PVD鍍膜與傳統的化學(xué)電鍍的相同點(diǎn)是，兩者都屬于表面處理的范疇，都是通過(guò)一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。兩者的不同點(diǎn)是：PVD鍍膜膜層與工件表面的結合力更大，膜層的硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩定；

在PVD技術(shù)下，用于制備薄膜材料的物質(zhì)，統稱(chēng)為PVD鍍膜材料。經(jīng)過(guò)多年發(fā)展，PVD技術(shù)已成為目前主流鍍膜方法，主要包括濺射鍍膜和真空蒸發(fā)鍍膜。②CVD技術(shù)CVD技術(shù)是在高溫下依靠化學(xué)反應、把含有構成薄膜元素的氣態(tài)反應劑或液態(tài)反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入反應室，在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應生成薄膜材料的技術(shù)。PVD鍍膜材料產(chǎn)業(yè)鏈上下游關(guān)系2.PVD鍍膜材料下游太陽(yáng)能應用行業(yè)概況太陽(yáng)能光伏行業(yè)中，PVD鍍膜材料主要應用于太陽(yáng)能電池。按太陽(yáng)能電池的結構劃分，可分為結晶硅和薄膜太陽(yáng)能電池二大族群。